Technologie zoekt nieuwe oplossing; dunne film depositie in blisterverpakking?

Een Eindhovens bedrijf, in 2010 een spin-off van TNO, tot deze zomer onderdeel van Nasdaq genoteerd bedrijf en nu na een management-buy-out zelfstandig, is groot geworden met de ontwikkeling van dunne-film depositietechniek ALD (atomic layer deposition) voor de PV industrie.

Hun, in dit geval, aluminiumoxide laag van 5 nm zorgt voor een efficiency verbetering van tussen de 0,8 en 1 % voor de zonnepanelen waarop deze atomische laag wordt aangebracht. ALD is als (plasma) proces bij uitstek een batch-proces, maar om het geschikt te maken voor massa productie én grote oppervlaktes (wafers voor zonnepanelen) heeft het bedrijf er (als één van de weinigen ter wereld) een continueproces voor weten te ontwikkelen met een uptime van meer dan 95%.

Nu hebben zij de vrijheid gekregen om naast PV ook andere toepassingsgebieden te gaan onderzoeken en bedienen. Daarbij ligt hun focus op dit moment op batterij-technologie en smart-packaging zoals medische blisterverpakkingen en food-packaging. Zij willen graag in contact komen met producenten of verwerkers van blisterverpakkingen.

Voor meer informatie; rim.stroeks@kvk.nl